Kurt J. Lesker Alumina Coated Evaporation Sources

Kurt J. Lesker Alumina Coated Evaporation Sources

概述

氧化铝涂层蒸发源已被开发用于替代氧化铝坩埚，用于某些特定应用。这种蒸发源的优点是良好的热传递性以及氧化铝对大多数金属的惰性。此外，蒸发剂不会润湿氧化铝，导致蒸发剂熔化时船体没有阻力变化。由于氧化铝的非润湿特性，蒸发剂在熔化时形成球体，形成点源。这种类型的蒸发源相比非受保护的源，寿命更长。涂层源需要额外的30%到50%的功率才能产生蒸发，因为热传导差异。氧化铝为半导体级，通过等离子喷涂技术喷涂在船或篮子上。应避免温度达到1850°C，蒸发时应略微降低功率以避免过热。

Kurt J. Lesker Alumina Coated Evaporation Sources

基础信息

• 基材：钨舟（Tungsten）

• 涂层：等离子喷涂高纯氧化铝 Al₂O₃（半导体级）

• 定位：专门蒸镀 Pd 钯等高活性金属（Pd 熔融后极易和钨合金化，普通钨舟会被熔穿报废，氧化铝隔离层阻挡合金反应） 

• 耐受上限：建议≤1800 ℃；长期避免 1850 ℃以上，涂层会加速分解、析出 Al₂O₃污染薄膜 

• 供电参考（蒸 Pd 场景）：约 4 V，230 A；需要大功率蒸发电源，熔化 Pd 通常需要预浸润保温 3–5 min 

上海宝叶生物科技有限公司

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